クリーンなHIP雰囲気を可能にするQuintus Purus® (クインタス・ピュルス

湿気のないHIP処理で妥協のない部品品質を実現

Quintus Purus®で湿気と部品の相互作用を防ぐ

最新のクインタス熱間静水圧プレス(HIP)炉の設計は、システムと部品の両方から湿気を除去し、湿気のないHIP環境を実現します。これにより、アルファケースの形成や重要部品の酸化などの望ましくない影響が排除されます。

よりクリーンなHIPの雰囲気

水分や汚染物質を積極的に除去し、変色、酸化、脆化、不要な表面反応を抑えます。

部品の性能と信頼性の向上

不純物を低減し、HIPに敏感なチタンおよびニッケル基合金の疲労と延性を改善します。

後処理を減らし、コストを削減

機械加工、ケミカルミリング、犠牲ゲッターラッピングの必要性を最小化または排除し、時間、コスト、複雑さを節約します。

プロセスの再現性と効率の向上

安定した雰囲気品質をサイクルごとに提供し、炉とアルゴンガスの清浄度を向上させ、スケーラブルで認定が重要な生産ワークフローをサポートします。

お客様の導入事例

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クインタス・ピュルス® クリーンHIP処理

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主な応用分野

電子機器
エネルギー&発電
医療用インプラント・工具
宇宙
サービスプロバイダー
防衛
航空宇宙
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よくある質問

クインタスが開発した、HIPサイクル中に清浄な雰囲気を確保するルーチンにより、従来の方法と比較して処理中の酸化リスクが低減されます。これはHIP内部の清浄処理に変革を起こす新技術です。

HPHT(高圧熱処理)は、クインタスが制御加熱とHIP処理を組み合わせた熱処理に使用する用語です。クインタスの装置の制御冷却機能によって、緻密化ステップの直後に熱処理を行うことができます。

Uniform Rapid Cooling (URC®)は、クインタスが開発した、被処理体の均一冷却を可能にする技術です。高温・高圧のガスをヒートシンク上で強制対流させることで、ガスの冷却の制御が可能になります。URC® は金属やセラミック材料に使用され、生産性向上や部品の熱処理に利用されています。

Uniform Rapid Quenching (URQ®)は、クインタスが開発した、ガス焼入れと同様の冷却速度で被処理体の高速焼入れを可能にする技術です。HIP内の低温ガスが炉内の高温ガスと非常に速い速度で交換され、誘導応力を最小限に抑えながら、被処理体が効果的にかつ均一に焼入れされます。

HPHTは、HIP容器内の低温表面上のHIP圧力媒体の対流を利用します。このような低温表面は、クインタスの装置の構造による冷却によって実現されます。ガスの流れを制御、誘導できるため、一定の速度で冷却を制御することが可能です。これを可能にする重要な技術がクインタスのURC® とURQ® です。

HIPの溶体化のステップによって、あらゆる材料の熱処理が可能です。また、硬化可能な合金に時効処理を行い、無孔のミクロ構造によって強度を高めることもできます。また、窒化ケイ素などのセラミック材料でも、以前より大幅に高速化した冷却速度の効果が期待できます。容器内の圧力がこれらを助けます。

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