Quintus Purus® 助力营造洁净的HIP气氛

Quintus 开发的常规程序，确保 HIP 周期过程中气体清洁，从而与传统方法相比，降低了加工过程中的氧化风险。这种技术是新技术，将使 HIP 内部的清洁加工发生变革。

高压热处理，这是 Quintus 用来表示热处理与可控加热和 HIP 加工合二为一的术语。Quintus 设备的可控冷却能力使热处理在致密化步骤后直接进行。

均匀快速冷却 (URC®) 技术是 Quintus 的一项发明，可让工件均匀冷却。高温高压气体在散热器上方强制对流，实现可控气体冷却。URC® 用于金属以及陶瓷材料，提高生产率，增加热处理零件数量。

均匀快速淬火 (URQ®) 技术是 Quintus 的一项发明，使工件以与气体淬火相似的冷却速率快速淬火。HIP 过程中的低温气体以非常高的速率与炉体中的高温气体交换，对工作进行高效、均匀淬火，诱导应力最低。

HPHT 利用 HIP 压力介质在 HIP 容器内部低温表面上方的对流作用。由于 Quintus 设备的设计，通过冷却可以产生这些低温表面。气体的流动可以控制和引导，可让您以特定速率掌控冷却。Quintus URC® 和 URQ® 技术是实现这点的关键。

各种材料都可以在 HIP 过程中通过固溶步骤进行热处理。还可以对可硬化合金进行时效处理，让强度达到无孔微观结构才具备的强度。氮化硅等陶瓷材料也可从比之前高得多的冷却速率中受益。容器内部的压力促成这两个优点。