Quintus Purus® 实现洁净的 HIP 环境

提供无湿 HIP 加工,确保零件质量不打折扣

使用 Quintus Purus® 防止湿气与部件相互作用

现代 Quintus 热等静压(HIP)炉的设计提供了无湿气的 HIP 环境,可去除系统和部件中的湿气。这消除了不必要的影响,例如α-壳的形成和关键部件的氧化。

更清洁的 HIP 环境

有效去除水分和污染物,减少变色、氧化、脆化和不必要的表面反应。

提高部件性能和可靠性

减少杂质,提高对 HIP 敏感的钛基合金和镍基合金的疲劳度和延展性。

减少后期处理,降低成本

最大限度地减少或消除机加工、化学铣削或牺牲型坩埚包覆的需要,从而节省时间、成本和复杂性。

更高的工艺可重复性和效率

提供稳定的循环气氛质量,提高炉子和氩气的洁净度,并支持可扩展的鉴定关键生产工作流程。

我们如何帮助客户

网络研讨会

Quintus Purus® 洁净 HIP 加工

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Quintus Purus® 可在热等静压工艺中实现清洁加工

客户故事

Paragon Medical 借助 Quintus® Care 和 Quintus Purus® 提升其医疗器械 AM 制造水平

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Quintus Purus® 洁净 HIP 加工

Quintus Purus® Enabling clean processing in Hot Isostatic Pressing
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PM-AM cylinder demo part
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Paragon Medical 借助 Quintus® Care 和 Quintus Purus® 提升其医疗器械 AM 制造水平

主要用于

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航天
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机动车辆
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医学植入物和工具
国防
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Quintus 开发的常规程序,确保 HIP 周期过程中气体清洁,从而与传统方法相比,降低了加工过程中的氧化风险。这种技术是新技术,将使 HIP 内部的清洁加工发生变革。

高压热处理,这是 Quintus 用来表示热处理与可控加热和 HIP 加工合二为一的术语。Quintus 设备的可控冷却能力使热处理在致密化步骤后直接进行。

均匀快速冷却 (URC®) 技术是 Quintus 的一项发明,可让工件均匀冷却。高温高压气体在散热器上方强制对流,实现可控气体冷却。URC® 用于金属以及陶瓷材料,提高生产率,增加热处理零件数量。

均匀快速淬火 (URQ®) 技术是 Quintus 的一项发明,使工件以与气体淬火相似的冷却速率快速淬火。HIP 过程中的低温气体以非常高的速率与炉体中的高温气体交换,对工作进行高效、均匀淬火,诱导应力最低。

HPHT 利用 HIP 压力介质在 HIP 容器内部低温表面上方的对流作用。由于 Quintus 设备的设计,通过冷却可以产生这些低温表面。气体的流动可以控制和引导,可让您以特定速率掌控冷却。Quintus URC® 和 URQ® 技术是实现这点的关键。

各种材料都可以在 HIP 过程中通过固溶步骤进行热处理。还可以对可硬化合金进行时效处理,让强度达到无孔微观结构才具备的强度。氮化硅等陶瓷材料也可从比之前高得多的冷却速率中受益。容器内部的压力促成这两个优点。

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